HTX TM-Sprayer™
質譜前處理基質噴灑系統

TM-Sprayer™ 質譜前處理基質噴灑系統是一操作簡單多用途的噴灑系統，提供自動化質譜影像的樣品前處理。其專利技術可將基質以非常細微、一致性的噴灑於樣品上，這對質譜影像及相對定量分析來說是非常關鍵的。

．沉積方式：多種偏距位置以線性或螺旋模式噴灑
．噴灑流速：50~500 μl/min
．外鞘氣體溫度：室溫至130°C (+/‐ 2°C)，軟體可設定
．氣體流速：3-5 liter/min
．噴頭位置：直角坐標定位載台
．重量：18kg
．尺寸：41 x 38 x 33cm

1. 專利技術可噴灑非常小的基質液珠(<20μm)
2. 高效高速樣品製備 (每盤10-20分鐘)
3. 獨特使用氮氣及溫度控制揮發速率及控制基質結晶形成
4. SA, CHCA, DHB等基質及Trypsin消化已通過測試
5. 可連續的基質覆蓋
6. 容易操作及清洗

MALDI質譜前處理
質譜影像研究